1.简单介绍：

X 射线光电子能谱( XPS) 是一种材料表面分析技术，它不仅能表征材料表面所含的元素种类及含量，还能给出其化学价态、化学键及有关的电子结构信息。正是由于其谱图具有丰富的化学信息，因此，它还有一个别名，即化学分析电子能谱(ESCA)。自 XPS问世以来，其在材料、化学、环境、催化等众多领域的研究中都有广泛用途，且其在环境催化领域已有很多成功应用的实例。

2. XPS的分析特点

（1）XPS是一种非破坏性的表面分析技术，提供的是样品表面的元素含量及形态，其探测深度一般小于10 nm。

（2）该法的样品用量少，可少至10-8g；

（3）灵敏度高，绝对灵敏度高达10-18g；

（4）应用范围广，能够检测除H和He以外的所有元素，且可实现多元素的同时测定。

（5）不同元素的同种能级的结合能相差很大，相互干扰小，故XPS的元素定性能力强；

（6）元素所处的化学环境不同，其结合能也会存在一定的差别，即存在化学位移，基于此，XPS可用于结构分析及化学态分析；

（7）由于XPS谱图中峰的强度与被测元素含量之间具有一定的相关性，故通过测量光电子峰的强度还可对其进行定量分析。

3.基本操作及流程

（1）双击Advantage图标

（2）选中同种样品的全谱和精细谱

（3）首先需要电荷校准，需要调节C1s峰至284.8eV。

（4）在得知目前C1s峰所在位置为284.51eV后，将所有元素进行偏移。

（5）偏移后对全谱进行物质分析。由于本物质所选为In₂S₃,可以粗略发现In:S为2:3。但全谱定量是不准的，需要进一步分析精细谱。

（6）对所需要元素的精细谱进行进一步分析。在连续手动添加单个峰后（有的样品需要添加双峰，比如Ti），点击“Fit This...”,即可自动拟合。

（7）有时软件寻峰可能不是你想要的，也可以手动添加峰的位置，再进行拟合。后续操作与第6步一致

（8）拟合后即可进行相应分析。注意：拟合后的标准线（蓝色）应该均匀分布在黑线周围，视为拟合成功。如果效果不好，可能需要微调峰的位置和高度再进行拟合分析。